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真空新能源设备 Vacuum Tech
VERAL GH系列
CVI沉积炉
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公司名称：
VERAL GH系列 CVI沉积炉
VERAL GH Series CVl Deposition Furnace
合用于石墨和碳化硅基底的半导体级碳化硅涂层工艺
设备特点
针对产品高、钟注低纯度需要 ，两全设备成本和用户预算 ，最优化设计
聚氯硅烷在线处置装置 ，进气管防梗塞措施 ，保障工艺顺行 ，有效降低安全风险和系统守护频次
配置固体送料系统 ，能够兼容碳化、碳化担等涂层的造备
配置液体闪蒸蒸发系统 ，在增长量程调节领域的同时 ，保障液体进料的正确性和不变性
工件支持结构的自动切换 ，保险沉积涂层的均匀性
技术指标
最高使用温度
1600℃
温度均匀性
±10℃
冷态极限真空度
10Pa
合用工艺
石墨和碳化硅基底的半导体级碳化硅涂层工艺
合用资料
石墨、碳化硅
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