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公司名称：
HORI系列 卧式陆续PVD设备
HORI Series Inline PVD Equipment
陆续镀膜设备，合用于耐蚀涂层、光电涂层、硬质涂层、磁性资料沉稀土涂层等领域，可满足金属、氧化物、氮化物、碳化物产品直流溅射、射频溅射、中频溅射工艺需要。陆续式PVD设备可用于自动化晶界扩渗产线中，选取旋转靶技术，实现沉稀土薄膜±5%的高均匀性沉积。
设备特点
矫捷的？榛杓，可凭据客户需要扩大
可定造化基片幅宽，研发、中试、量产均可
可单/双面镀膜
守护方便快捷，；Ψ蚨
技术指标
基片走速
30-1000mm/min
薄膜均匀性
±5%
靶材利用率
平面阴极≥35%、旋转阴极≥80%
合用工艺
直流溅射、射频溅射、中频溅射
合用资料
金属、氧化物、氮化物、碳化物等
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