VORI系列 立式陆续PVD设备
VORI Series Inline PVD Equipment
设备，合用于太阳能、耐蚀涂层、光电涂层、硬质涂层等领域，可满足金属、氧化物、氮化物、碳化物产品直流溅射、射频溅射、中频溅射工艺需要。陆续式PVD设备可用于自动化晶界扩渗产线中，选取旋转靶技术，实现沉稀土薄膜±5%的高均匀性沉积。立式PVD陆续线创新性集成磁控溅射与多弧离子镀双技术路线，拓宽了高端涂层造备工艺场景，并已在客户交付现场实现TGV通孔镀膜工艺验证。
- 设备特点
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- 技术指标
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- 基片走速
- 薄膜均匀性
- 靶材利用率
- 合用工艺
- 合用资料
