Hesper TE430R 12英寸单片矩形腔减压表延系统
Hesper TE430R 12 Inch Single Wafe Rectangular Chamber Reduced Pressure Silicon Epitaxy System
Hesper TE430R为12英寸单片减压表延设备 ，可建设前处置腔室（ASSC）和3个表延腔室。该机台通过5+5路进气节造、垂直红表加热灯散布设计和先进的控压控温系统 ，得到较好的膜厚均匀性 ，重要用于先进逻辑和存储领域沟路层的成长。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用顿域
