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半导体设备 Semiconductor
Satur系列
多片式MOCVD系统
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公司名称:
Satur系列 多片式MOCVD系统
Satur Series Batch MOCVD System
Satur系列 MOCVD气相表延设备,选取金属有机化合物源输运规划,合用于氮化镓、砷化镓、磷化铟等化合物半导体表延出产。 设备全系自主研发,优化流场与温场设计,均匀性节造能力凸起。经客户端量产工艺实考试证,整机机能与表延工艺水平达到国内当先,国际先进水平,助力化合物半导体产线自主化落地。
设备特点
优异的均匀性、一致性、不变性节造
盒对盒全自动传输系统
先进的实时监控系统
敦睦界面与配方编纂职能
满足SEMI S2 安全尺度
产品利用
晶圆尺寸
4、6、8英寸
合用资料
氮化镓、砷化镓、磷化铟
合用衬底
硅、碳化硅、氧化铝、砷化镓、磷化铟
合用领域
集成电路、化合物半导体、科研
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