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ACE E300Ge

高选择比刻蚀机

ACE E300Ge 高选择比刻蚀机

ACE E300Ge High Selectivity Etcher

ACE E300Ge 刻蚀设备面向 3D 结构、深邃宽比先进存储造程，搭载立体高密度等离子源与超高效能离子过滤装置主题硬件配置。依附精准调控粒子能量散布的离子过滤主题技术，兼容多类薄膜资料刻蚀工艺，实现高选择比金属硬掩？淌从氪娲⒕г驳臀Ｏ毡肀泶χ，可缩减掩膜厚度、简化高低游造程，搭配OES Plus监测腔室不变性，保险批量工艺不变沉复。设备兼具宽泛的资料工艺适配能力与极致超高刻蚀选择比，作为先进存储工艺专用高端刻蚀设备，为该类高端刻蚀造程提供专属解决规划。

设备特点

产品利用

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