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NMC 508系列

ICP刻蚀机

NMC 508系列 ICP刻蚀机

NMC 508 Series ICP Etcher

NMC 508系列ICP刻蚀机重要用于集成电路/封装/化合物半导体/新兴领域6/8英寸半导体及金属氧化物等资料干法刻蚀。多腔室集群设计，支持全自动并行工艺，适合中试线、大规模出产线的量产利用。该设备选取怪异的等离子体源、多区进气、直下抽腔室等设计，具备优异的刻蚀均匀性和刻蚀精度，合用金属刻蚀、硅刻蚀、深硅刻蚀、低危险刻蚀等多种工艺，为多品类刻蚀场景提供优异解决规划。

设备特点

产品利用

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