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CCP刻蚀机
半导体设备 Semiconductor
NMC 508系列
CCP刻蚀机
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公司名称：
NMC 508系列 CCP刻蚀机
NMC 508 Series CCP Etcher
NMC 508系列CCP刻蚀机重要用于集成电路/化合物半导体/新兴与科研领域6/8英寸介质资料干法刻蚀。使用双频解耦合等离子体源设计，具备更高的射频效能，实现优异的均匀性及深邃宽比刻蚀。前后路选取分歧频率：前路刻蚀速度快，描摹节造优 ；后路副产品节造优，MTBC长、CoC低，齐全覆盖各类介质刻蚀工艺需要。
设备特点
双频解耦合等离子体源设计，更高的射频效能。
优异的均匀性及深邃宽比刻蚀。
行业当先的刻蚀效能，不变的颗＝谠。
clean mode量产模式，前路、后路均具备优异MTBC。
产品利用
晶圆尺寸
6"/8"
合用领域
集成电路、化合物半导体、新兴利用与科研领域设备
合用工艺
钝化层刻蚀、硬掩膜刻蚀、接触孔刻蚀、导线孔刻蚀、侧墙刻蚀
合用资料
氧化硅、氮化硅、氮氧化硅
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