mg冰球突破

home

首页产品&服务半导体设备等离子刻蚀设备高密度化合物刻蚀机

半导体设备 Semiconductor

GDE C200系列

高密度化合物刻蚀机

GDE C200系列高密度化合物刻蚀机

GDE C200 Series Compound Semiconductor Etcher

GDE C200系列高密度刻蚀机重要用于6/8英寸化合物资料干法刻蚀。该设备选取超高密度等离子体源、独立控温上电极系统，配置高温下电极系统，能够兼容二/三/四代化合物半导体资料刻蚀。设备刻蚀速度高、均匀性好，颗＝谠觳槐，在SiC-Power、GaAs-RF、GaN-RF、滤波器、Optic等领域利用宽泛。

设备特点

产品利用

分享我们：

联系mg冰球突破

: 官方公家号

【网站地图】