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半导体设备 Semiconductor

eVictor系列

12英寸物理气相沉积系统

eVictor系列 12英寸物理气相沉积系统

eVictor Series 12 Inch PVD System

eVictor系列 12英寸物理气相沉积系统蕴含大气平台、真空传输平台、去气腔室、预洗濯腔室以及工艺腔室，可能实现蕴含金属栅极、金属硅化物、中段粘附与反对层、铜籽晶层与反对层、铝衬垫层等多种工艺，eVictor系列为全自动大产能设备，拥有反映腔自动开关盖，wafer自动传输，工艺去气，晶片表表预清洁、薄膜沉积齐全自动化等特点，设备可同时满足较好的厚度均匀性和Rs均匀性。

设备特点

产品利用

晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
钴、镍铂、钛铝、钛、氮化钛、钽、氮化钽、氧化钽、铜、铝、钨
合用工艺
金属硅化物、金属栅、氮化钛反对层、铜反对层/种子层、钨电极、铝衬垫、铝线

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