mg冰球突破
首页
关于华创
新闻&活动
产品&服务
参与mg冰球突破
投资者关系
切换说话
关于华创
相识华创
品牌释义
企业文化
行业职位
企业荣誉
社会责任
合规申明
新闻&活动
企业新闻
展会活动
产品&服务
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
服务网络
参与mg冰球突破
人才理想
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
人在NAURA
投资者关系
相识华创
品牌释义
企业文化
行业职位
企业荣誉
社会责任
合规申明
企业新闻
展会活动
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
服务网络
产品系列
等离子刻蚀设备 Etch
物理气相沉积设备 PVD
化学气相沉积设备 CVD
湿法设备 WET
键合设备 Bonder
立式炉管设备 Vertical Furnace
离子注入设备 Implant
急剧热处置设备 RTP
表延设备 EPI
利用领域
集成电路 IC
先进封装 Advanced Packaging
化合物半导体 Compound Semiconductor
新兴利用与科研领域设备 Emerging Applications and R&D
客户服务 Services
备品备件 Parts
产品系列
晶体成长设备 Crystal Growth Equipment
炉管设备 Tube Furnace
真空及空气烧结设备 Vacuum & Atmosphere Sintering Equipment
真空及空气焊接设备 Vacuum & Atmosphere Welding Equipment
真空及空气热处置设备 Vacuum & Atmosphere Heat Treatment Equipment
工业薄膜沉积设备 Industrial Thin Film Deposition Equipment
板级封装设备 Panel-Level Packaging Equipment
平板显示设备 Flat Panel Display Equipment
利用领域
光伏 Photovoltaics (PV) Industry
锂电 Li-ion Battery
半导体 Semiconductor
真空电子 Vacuum Electronics
三航两机 Aerospace, Aviation, Marine, Aero-engine and Gas turbine
石墨碳材 Graphite and Carbon Materials
磁性资料 Magnetic Materials
光学镀膜 Optical Coating
职能涂层 Functional Coating
板级封装 Panel-level Packaging
显示 Display
产品系列
表壳 Packages
电阻器 Resistors
电容器 Capacitors
磁心 Magnetic Cores
电感器 Inductors
晶体谐振器 Crystal Resonators
晶体振荡器 Crystal Oscillators
传感器 Sensors
光电子器件 Optoelectronic Devices
微波器件 Microwave Devices
微波组件 Microwave Modules
？榈缭 Power Modules
仿照芯片 Analog ICs
数字芯片 Digital ICs
电源芯片 Power IC
人才理想
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
人在NAURA
参与mg冰球突破
人才理想
人在NAURA
半导体设备
社会招聘
校园招聘
海表招聘
内部推荐
真空新能源设备
社会招聘
校园招聘
内部推荐
精密元件器设备
社会招聘
校园招聘
参与mg冰球突破
人才理想
人在NAURA
搜索
简体中文
English
首页
产品&服务
半导体设备
物理气相沉积设备
PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统
半导体设备 Semiconductor
Polaris H630
PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统
联系征询
公司名称：
Polaris H630 PVD 氮化钛金属硬掩膜物理气相沉积系统
Polaris H630 PVD TiN Metal HardMask PVD System
Polaris H630 在IC造备流程后段工艺（BEOL）中利用宽泛。搭配的exiTin TTN腔室为尺度PVD腔室，重要沉积高纯度的TiN薄膜，沉点利用于集成电路造作后路的金属硬掩膜工序薄膜，可同时满足较好的厚度均匀性和Rs均匀性。
设备特点
优化的工业设计满足用户对占地尺寸和守护空间的要求
怪异的磁控溅射源和腔室结构设计有效提高靶材利用率
配置矫捷，大产能，低运营成本
产品利用
晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
氮化钛
合用工艺
硬掩膜沉积
分享我们：
微信扫一扫
联系mg冰球突破
官方公家号
【网站地图】
