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化学气相沉积设备
12英寸化学气相沉积系统
半导体设备 Semiconductor
Orion系列
12英寸化学气相沉积系统
联系征询
公司名称：
Orion系列 12英寸化学气相沉积系统
Orion Series 12 Inch CVD System
Orion系列设备重要利用于12英寸金属钨、氮化钨沉积，设备选取Orion平台，四工艺位设计，具备大产能优势 。设备重要由大气平台、真空传输平台、前处置腔室以及工艺腔室组成 。
设备特点
均匀不变的反映室气流场技术，有效提高薄膜均匀性
抽气管路预防颗粒梗塞节造技术,优异的颗＝谠炷芰
先进无损预洗濯工艺整合技术，保障薄膜沉积的前处置
四工位腔室技术，极大提高产能，降低运营成本
产品利用
晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
钨、氮化钨
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