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EPEE系列

等离子化学气相沉积系统

EPEE系列等离子化学气相沉积系统

EPEE Series PECVD System

EPEE系列PECVD可利用于8英寸及以下集成电路、化合物半导体、新兴利用与科研领域，具备多样化的传输系统，可满足量产及研发客户需要，并具备硅、碳化硅、玻璃、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂、钽酸锂等分歧衬底传输及工艺能力，具备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳膜层沉积能力，拥有优良的均匀性节造能力、应力调节能力、台阶覆盖性及电学、光学调控能力，宽泛利用于氧化硅图形化衬底层、钝化层、绝缘层、掩膜层。

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产品利用

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