mg冰球突破
首页
关于华创
新闻&活动
产品&服务
参与mg冰球突破
投资者关系
切换说话
关于华创
相识华创
品牌释义
企业文化
行业职位
企业荣誉
社会责任
合规申明
新闻&活动
企业新闻
展会活动
产品&服务
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
服务网络
参与mg冰球突破
人才理想
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
人在NAURA
投资者关系
相识华创
品牌释义
企业文化
行业职位
企业荣誉
社会责任
合规申明
企业新闻
展会活动
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
服务网络
产品系列
等离子刻蚀设备 Etch
物理气相沉积设备 PVD
化学气相沉积设备 CVD
湿法设备 WET
键合设备 Bonder
立式炉管设备 Vertical Furnace
离子注入设备 Implant
急剧热处置设备 RTP
表延设备 EPI
利用领域
集成电路 IC
先进封装 Advanced Packaging
化合物半导体 Compound Semiconductor
新兴利用与科研领域设备 Emerging Applications and R&D
客户服务 Services
备品备件 Parts
产品系列
晶体成长设备 Crystal Growth Equipment
炉管设备 Tube Furnace
真空及空气烧结设备 Vacuum & Atmosphere Sintering Equipment
真空及空气焊接设备 Vacuum & Atmosphere Welding Equipment
真空及空气热处置设备 Vacuum & Atmosphere Heat Treatment Equipment
工业薄膜沉积设备 Industrial Thin Film Deposition Equipment
板级封装设备 Panel-Level Packaging Equipment
平板显示设备 Flat Panel Display Equipment
利用领域
光伏 Photovoltaics (PV) Industry
锂电 Li-ion Battery
半导体 Semiconductor
真空电子 Vacuum Electronics
三航两机 Aerospace, Aviation, Marine, Aero-engine and Gas turbine
石墨碳材 Graphite and Carbon Materials
磁性资料 Magnetic Materials
光学镀膜 Optical Coating
职能涂层 Functional Coating
板级封装 Panel-level Packaging
显示 Display
产品系列
表壳 Packages
电阻器 Resistors
电容器 Capacitors
磁心 Magnetic Cores
电感器 Inductors
晶体谐振器 Crystal Resonators
晶体振荡器 Crystal Oscillators
传感器 Sensors
光电子器件 Optoelectronic Devices
微波器件 Microwave Devices
微波组件 Microwave Modules
？榈缭 Power Modules
仿照芯片 Analog ICs
数字芯片 Digital ICs
电源芯片 Power IC
人才理想
半导体设备
真空新能源设备
精密元器件
人在NAURA
参与mg冰球突破
人才理想
人在NAURA
半导体设备
社会招聘
校园招聘
海表招聘
内部推荐
真空新能源设备
社会招聘
校园招聘
内部推荐
精密元件器设备
社会招聘
校园招聘
参与mg冰球突破
人才理想
人在NAURA
搜索
简体中文
English
首页
产品&服务
半导体设备
立式炉管设备
12英寸立式中温氧化炉
半导体设备 Semiconductor
THEORIS X302P
12英寸立式中温氧化炉
联系征询
公司名称：
THEORIS X302P 12英寸立式中温氧化炉
THEORIS X302P THEORIS X302P 12 Inch Vertical Mid-TEMP Oxidation Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域中温（600℃-1000℃）氧化/退火工艺 。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处置过程实现了高度自动化 。系统重要由传输？椤⒐ひ漳？椤⒌缭垂竦炔棵抛槌 。
设备特点
先进的颗＝谠旒际
高精度温度场节造技术
先进的微环境氧含量节造技术
急剧升/降温度技术
高产能
产品利用
晶圆尺寸
12 英寸
合用资料
硅
合用工艺
中温氧化、退火
合用领域
集成电路
分享我们：
微信扫一扫
联系mg冰球突破
官方公家号
【网站地图】
