THEORIS A302L 12英寸立式低温退火炉
THEORIS A302L THEORIS A302L 12 Inch Vertical Low-TEMP Anneal Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域低温退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，兼容多类型Wafer传输，并拥有不变的机台阐发，Uptime高。工艺处置过程实现了高度自动化，拥有靠得住的氢气工艺及处置能力。其工艺覆盖率高，宽泛利用于集成电路、先进封装等领域。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用领域
