SICRIUS PY302U II 12英寸立式先进非晶硅/多晶硅低压化学气相沉积炉
SICRIUS PY302U II SICRIUS PY302U II 12 Inch Vertical Advanced A-Si/Poly-Si LPCVD Furnace
本产品重要利用于12英寸集成电路（IC）领域 低压化学气相沉积非晶硅（Amorphous Si）、多晶硅（Poly Si）薄膜沉积，因其杰出的电子个性和与现有硅基工艺的兼容性而被宽泛利用。该产品基于NAURA最新一代先进平台开发，具备更好的氧含量节造能力、更高的传输效能，同时搭载了全新自主研发的全石英腔室+高精度炉体，兼容多种硅源先驱体，并实现了原位洗濯、原位刻蚀、多元素掺杂等职能，以及优异的颗粒及金属传染节造能力、靠得住的工艺不变性以及多样化、智能化的系统节造，可批量处置12英寸晶圆以实现高产能出产。
- 设备特点
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- 产品利用
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- 晶圆尺寸
- 合用资料
- 合用领域
